| Кляхіна Н.П. Формування структури і фізичних властивостей нітридних плівок, отриманих методами реактивного розпилювання на підкладках Si, Ni, Ti, Ta, Mo і W : Автореф. дис... канд. фіз.-мат. наук: 01.04.07 / Н.П. Кляхіна ; НАН України. Донец. фіз.-техн. ін-т ім. О.О.Галкіна. — Донецьк, 2004. — 23 с.: рис., табл. — укp.Досліджено механізм процесу росту нітридних плівок на кристалічних підкладках, одержаних за методом іонної імплантації (ІІ), які задовільно узгоджуються з експериментальними даними стосовно кінетики росту плівок. На підставі порівняльного аналізу результатів показано відмінність у структурі, фазовому складі, кінетиці росту та властивостях нітридних плівок на підкладках Si, Ni, Mo, W, Ti і Ta за використання методів напилювання ІІ, конденсації з іонним бомбардуванням (КІБ) і ВЧМР. Визначено структурно-фазовий стан, кінетику росту та властивості нітридних плівок у системах W - N, Mo - N і Ni - N. Установлено істотне підвищення (у 2 - 10 разів) адгезії нітридних плівок, одержаних з використанням методів ІІ та КІБ у порівнянні з плівками, отриманими за ВЧМР. Здійснено оцінку гетероепітаксійної температури у системах Si - AlN, Si - TiN. Завантажити
Індекс рубрикатора НБУВ: В372.6,022 + Шифр НБУВ: РА334469
Рубрики:
|