З'ясовано, що головною причиною утворення тривимірних дефектів в олов'яних покриттях на консервній жерсті є адсорбція бульбашок молекулярного водню на її поверхні під час електроосадження. Установлено, що кристалографічна текстура олов'яних покриттів на жерсті описується двома аксіальними орієнтаціями (101)[hkl] та (100)hkl], перпендикулярними до поверхні і невпорядкованим компонентом. Виявлено особливості зміни кількісних характеристик основного аксіального компонента (101)[hkl] текстури олова залежно від параметрів осадження. Установлено кількісну залежність захисної здатності олов'яних покриттів на консервній жерсті від їх текстури та визначено оптимальний режим їх одержання. Показано, що підвищення досконалості аксіального компонента (100)[hkl] текстури олов'яних покриттів сприяє поліпшенню їх захисної здатності. З використанням результатів дослідження розроблено технологію лудження консервної жерсті у малотоксичних сірчанокислих електролітах.

  Скачати повний текст