Розглянуто питання геометричного моделювання процесу очищення парових потоків у разі дугового й електронно-променевого випарювання матеріалів у вакуумі технології фізичного осадження з парової фази (Physical Vapor Deposition). Проведено формалізацію способів побудови робочих поверхонь електронно-іонного обладнання. Створено алгоритмічну основу розрахунку багатократного відбиття променів від поверхонь, апроксимованих трикутними відсіками площини, та заданих у неявній і векторно-параметричній формі. Одержано рівняння сім'ї поверхонь однакової опроміненості, встановлено, що поверхня однакової опроміненості, яка відповідає k = 0, є поверхнею катакаустики. Розв'язано задачу розрахунку товщини осаджуваного покриття за схеми напилення з розжарюваним відбивачем. Розроблено методику імітаційного геометричного дослідження просторового розподілу багаторазово відбитих променів за допомогою сферичних і гіперсферичних карт відбиття, яка не залежить від складності поверхні рефлектора. Розраховано ступінь очищення плазми для чотирьох модифікацій фільтрів відкритого типу з фрактальною моделлю поведінки джерела макрочасток.