Изложены основы физики и техники вакуумно-дуговых источников плазмы для осаждения функциональных покрытий. Систематизированы результаты исследований в области формирования потоков эрозионной плазмы, генерирующейся катодными пятнами дугового разряда в вакууме и газовой среде низкого давления. Рассмотрены способы зажигания и стабилизации разряда в технологических плазменных источниках. Приведены данные об эрозии катода, ее капельной, паровой и ионной составляющих, о зарядовом составе и энергетическом спектре ионного компонента, о его взаимодействии с газовой мишенью. Рассмотрены способы формирования диаграммы направленности плазменных потоков и механизмы транспортировки плазмы в прямо- и криволинейных магнитоэлектрических плазмоведущих каналах. Описаны наиболее распространенные фильтрующие системы для очистки плазмы от макрочастиц материала эродирующего катода.

Рассмотрены свойства вакуумно-дуговых покрытий, связь их характеристик с параметрами процессов осаждения. Приведены данные о материалах покрытий для поверхностной антикоррозионной защиты конструкционных материалов. Внимание уделено защите урана и циркония. Описаны методы низко- и среднеэнергетичной (∼1...50 кэВ) ионной имплантации, приведены результаты исследований их влияния на коррозионное поведение и механические свойства поверхностей урана, циркония и сплавов на их основе. Рассмотрены композитные и многослойные конденсаты, осажденные с применением источников фильтрованной и нефильтрованной плазмы с катодами сложного состава, а также систем с несколькими катодами из разных "мономатериалов". Изложены концепции создания сверхтвердых материалов, сведения о наноструктурных (в том числе композиционных) покрытиях. Даны сведения о структуре и служебных характеристиках нитридных покрытий.

Кратко изложены основы физики и техники вакуумно-дуговых источников плазмы, очищенной от макрочастиц - твёрдых и жидких фрагментов катодного материала. Источники предназначены для осаждения функциональных покрытий. Систематизированы результаты исследований в области формирования потоков макрочастиц эрозионной плазмы, которые генерируются катодными пятнами дугового разряда в вакууме и газовой среде низкого давления. Рассмотрены способы подавления эмиссии частиц в технологических плазменных источниках, формирования диаграммы направленности плазменных потоков и механизмы транспортировки плазмы в прямолинейных и криволинейных магнитоэлектрических плазмоведущих каналах. Рассмотрены программные способы исследования движения плазменных компонентов вдоль фильтров, а также прогнозирования и оптимизации рабочих характеристик систем. Описаны наиболее распространённые фильтрующие системы для очистки плазмы от макрочастиц.