Проаналізовано вплив зіткнень між компонентами слабко іонізованої плазми на процеси заряджання та екранування макрочастинок. Запропоновано новий підхід до моделювання вказаних процесів, який грунтується на числовому розв'язку системи кінетичних рівнянь Власова із модельними інтегралами зіткнень. Одержано залежності заряду частинок різних розмірів від частоти зіткнень іон-нейтрал. З’ясовано, що в зіткневій плазмі електричний потенціал частинки завжди має асимптотичну поведінку кулонівського типу. Охарактеризовано вплив зіткнень іон-нейтрал на іонну силу опору, яка діє на частинку, що рухається. Показано, що іонна сила опору змінює напрям у разі зменшення довжини вільного пробігу іонів. Визначено залежність іонної сили опору від швидкості руху частинки в гідродинамічному режимі.