Розглянуто питання удосконалення характеристик оптоелектронних елементів прийому та реєстрації випромінювання на базі запропонованих науково-технічних рішень, розроблено нові типи інжекційних фотодіодів (ІФД). Удосконалено метод підвищення фоточутливості діодів шляхом реалізації внутрішнього інжекційного підсилення. Розроблено критерії оцінки фотоелектричного інжекційного підсилення в області "домішкового" та "власного" поглинання випромінювання. Одержано аналітичні вирази для розрахунку характеристик на базі неоднорідно-легованих та варизонних напівпровідників. З'ясовано, що використання базових матеріалів з неоднорідною структурою сприяє значному підвищенню фоточутливості ІФД. Досліджено умови та механізми реалізації фотоелектричного інжекційного підсилення у поверхнево-бар'єрних структурах (ПБС) за досягнення досить високого рівня інжекції з контакту метал-напівпровідник. Одержано та досліджено інжекційні фотодіоди на основі Ni-Si : Au-ПБС.