|
MFI4082/1-2 Rosenblad, Carsten. Development of a plasma enhanced chemical vapour deposition system [Text] : diss. / C. Rosenblad ; Swiss Federal institute of technology Zürich. - Zürich : [б.в.], 2000. - 114 p.: fig. - (Diss ETH ; 13601).
Тематичний рубрикатор:
Дод. точки доступу: Swiss Federal institute of technology Zürich
Видання зберігається у :
|
|