|
|
ІВ218304
Stark, Thorsten.
Atomic Layer Deposition und Charakterisierung von Yttrium dotiertem Hafniumoxid [Text] : Diss. / Thorsten Stark ; Fak. Elektrotechnik und Informationstechnik der Techn. Univ. Dresden. - Dresden : [s. n.], 2012. - IV, 124 S. : Abb. - Бібліогр.: с. 107-119.
Тематичний рубрикатор:
Дод. точки доступу:
Technischen Universität (Dresden). Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik
Видання зберігається у :
Основний фонд
|
|