MFI4334/1-2
Omura, Ichiro.
High Voltage MOS device design: injection enhancement and negative gate capacitance [Text] : diss. / I. Omura ; Swiss Federal institute of technology Zürich. - Zürich : [б.в.], 2000. - 129 p.: fig.
2 mfishe

Рубрикатор НБУВ:
Тематичні рубрики:


Дод. точки доступу:
Swiss Federal institute of technology Zürich

Видання зберігається у :