|
|
ІВ220318
Zimmermann, Thomas.
High-rate growth of hydrogenated amorphous and misrocrystalline silicon for thin-film silicon solar cells using dynamic very-high frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition [Text] : diss. / Thomas Zimmermann ; Techn. Univ. Dresden, Fak. Elektrotechnik und Informationstechnik. - Dresden, 2013. - X, 128 p. : fig. - (Energie & Umwelt = Energy & environment / Forschungszentrum Jülich, ISSN 1866-1793 ; Bd. 183). - Бібліогр.: с. 107-120. - ISBN 978-3-89336-892-1Рубрикатор НБУВ: Тематичні рубрики:
Дод. точки доступу:
Technischen Universität (Dresden). Fakultät Elektrotechnik und Informationstechnik
Видання зберігається у :
Основний фонд
|
|