|
|
Кудрявцев, Ю. В.
Исследование твердофазных реакций в многослойных пленках Ni/Si методом спектральной эллипсометрии [Text] !Otitkn.pft: FILE NOT FOUND! !oizd.pft: FILE NOT FOUND! !ospec.pft: FILE NOT FOUND! !oistaspk_H.pft: FILE NOT FOUND! Рубрикатор НБУВ: Тематичні рубрики:
Шифр журнала:
Кл.слова (ненормированные):
многослойная пленка -- облучение ионами -- термический отжиг -- фазовый состав -- оптические свойства
Анотація: За допомогою методів рентгенофазового аналізу та спектральної еліпсометрії в багатошарових плівках (БШП) Ni/Si з середнім за об'ємом складом <$E roman {Ni sub 0,67 Si} sub 0,33>, <$E roman {Ni sub 0,50 Si} sub 0,50> та <$E roman {Ni sub 0,33 Si} sub 0,67> досліджено твердофазні реакції, що виникли внаслідок опромінення іонами та термічного відпалу БШП. Опромінення виконано іонами аргону з енергією 80 кеВ і дозою <$E 5~times~10 sup 16~roman {Ar sup + "/" см} sup 2>. Установлено, що опромінення іонами зумовлює структурні зміни в Ni/Si багатошарових плівках, які ще не реєструються рентгенофазовим аналізом, але виявляються оптичними методами. Термічний відпал БШП Ni/Si з середнім складом <$E roman {Ni sub 0,50 Si} sub 0,50> та <$E roman {Ni sub 0,33 Si} sub 0,67> за температури 670 K спричинює в них утворення фази <$E eta - roman NiSi>. Перші сліди фази <$E roman NiSi sub 2> на фоні фази <$E eta - roman NiSi> в БШП Ni/Si визначено за допомогою рентгенофазового аналізу після відпалу за температури 1 070 K, в той час як, згідно з оптичними дослідженнями, фаза <$E roman NiSi sub 2> є домінуючою в БШП складу <$E roman {Ni sub 0,33 Si} sub 0,67> за більш низьких температур відпалу. !oprip481_H.pft: FILE NOT FOUND!
Дод. точки доступу:
Сидоренко, С. И.; Макогон, Ю. М.; Павлова, Е. П.; Вербицкая, Т. И.; Ли, Й. П.
Видання зберігається у :
|
|