Простий
пошук
Розширений
пошук
Покажчики
Професійний
пошук
Рубрикатор
НБУВ
Розподілений
пошук

Бази даних

Наукова періодика України - результати пошуку

Книжкові видання та компакт-диски
Журнали та продовжувані видання
Автореферати дисертацій
Реферативна база даних
Наукова періодика України
Тематичний навігатор
Авторитетний файл імен осіб
Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"
Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Книжкові видання та компакт-диски (2)Реферативна база даних (11)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій


Пошуковий запит: (<.>A=Сопінський М$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 4
Представлено документи з 1 до 4
1.

Індутний І. З. 
Формування фотонних наноструктур за допомогою інтерференційної літографії та осадження у вакуумі під ковзним кутом [Електронний ресурс] / І. З. Індутний, В. І. Минько, П. Є. Шепелявий, М. В. Сопінський, В. М. Ткач, В. А. Данько // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. - 2011. - Вып. 46. - С. 49-56. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/ont_2011_46_7
Досліджено процес формування фотонних структур на поверхні мікропрофільованих кремнієвих підкладок. Формування рельєфної структури на кремнієвій пластині у вигляді матриці виступів субмікронних розмірів здійснювали за допомогою інтерференційної літографії з використанням вакуумних халькогенідних фоторезистів та селективного рідинного травлення. Для вирощування матриці SiOx-колон субмікронних розмірів на виступах мікропрофільованої підкладки використовувалось термічне осадження монооксиду кремнію у вакуумі під ковзним кутом. Геометричні параметри одержаних структур вивчено за допомогою високороздільного електронного та атомно-силового мікроскопів. Для характеризації одержаних структур проведено дослідження їх дифракційних та поляризаційних характеристик. Одержані кутові залежності дифракційної ефективності та ефективності конверсії поляризації демонструють анізотропні оптичні властивості двовимірних матриць SiOx-колон, що свідчить про можливість застосування таких структур як тонкоплівкових оптичних елементів.
Попередній перегляд:   Завантажити - 1.36 Mb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Сопінський М. В. 
Динаміка після конденсаційної трансформаціі термонапилених плівок бінарних та псевдобінарних халькогенідних склоподібних напівпровідникових сполук As2S3–xSex [Електронний ресурс] / М. В. Сопінський, О. В. Стронський, П. Є. Шепелявий // Науковий вісник Чернівецького університету. Фізика, електроніка. - 2006. - Вип. 303. - С. 37-40. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Nvchnufe_2006_303_9
Попередній перегляд:   Завантажити - 296.716 Kb    Зміст випуску     Цитування
3.

Михайловська К. В. 
Особливості фотолюмінесценції наночастинок кремнію у багатошарових (SіOх–SіOy)n структурах з поруватими ізолюючими шарами [Електронний ресурс] / К. В. Михайловська, В. А. Данько, О. Й. Гудименко, В. П. Кладько, І. З. Індутний, П. Є. Шепелявий, М. В. Сопінський // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. - 2018. - Вып. 53. - С. 169-180. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/ont_2018_53_11
Досліджено спектральні характеристики фотолюмінесценції (ФЛ) світловипромінюючих багатошарових (nc-Si-SiOx-SiOy)n структур, сформованих на c-Si пластинах за допомогою термічного осадження у вакуумі 30 - 40 пар cуцільних SiOx наношарів і проміжних поруватих SiOy наношарів (<$E x~<<~y~symbol Г~2>) та наступного високотемпературного відпалу і пасивування у парі HF. Встановлено, що положення максимуму та інтенсивність ФЛ таких надграток залежать від двох факторів: товщини робочих шарів і часу пасивації у парі фтористоводневої кислоти. Це надає можливість керувати спектральним складом і інтенсивністю випромінювання, змінюючи як товщину вихідних шарів надгратки, так і час пасивації наноструктури. Останнє досягається за рахунок використання в структурі надгратки в ролі розділяючих шарів поруватих плівок SiOy, крізь які можливе проникнення пари HF до активних SiOx шарів, в яких після високотемпературного відпалу формуються наночастинки кремнію. Проведено дослідження кінетики згасання ФЛ в багатошарових (nc-Si-SiOx-SiOy)n зразках і встановлено, що вона має немоноекспоненційний характер. Виміряна залежність швидкості випромінювальної рекомбінації від енергії випромінювальних квантів. Одержані значення середнього часу життя ФЛ і параметра його дисперсності в зразках надгратки з різними товщинами бішарів. Встановлено залежність цих параметрів від часу фторводневої обробки зразків (nc-Si-SiOx-SiOy)n структури. За допомогою еліпсометричних досліджень було встановлено, що в багатошарових (nc-Si-SiOx-SiOy)n надгратках проявляється ефект конверсії поляризації, що обумовлено наявністю нахилених колон в скісно осаджених проміжних поруватих SiOy наношарах.
Попередній перегляд:   Завантажити - 345.752 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
4.

Індутний І. З. 
Дослідження ефективності збудження поверхневих плазмон-поляритонів на алюмінієвих гратках з урахуванням дифрагованого випромінювання [Електронний ресурс] / І. З. Індутний, В. І. Минько, М. В. Сопінський, В. А. Данько, П. М. Литвин // Оптоелектроніка та напівпровідникова техніка. - 2021. - Вип. 56. - С. 71-82. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/ont_2021_56_8
Проведені детальні дослідження ефективності збудження поверхневих плазмон-поляритонів (ППП) на алюмінієвих гратках з періодом а = 694 нм, що перевищує довжину падаючої хвилі <$E lambda> = 632,8 нм, і глибиною рельєфу (h) в інтервалі від 6 до 135 нм. Зразки для досліджень формувалися на плівках халькогенідного фоторезисту As40S30Se30 за допомогою інтерференційної літографії та термічного напилення у вакуумі непрозорого шару алюмінію товщиною біля 80 нм. Дослідження особливостей збудження ППП проводилось на стенді, змонтованому на основі гоніометра Г5М та столика Федорова шляхом вимірювання кутових залежностей інтенсивності дзеркально відбитого і дифрагованого випромінювання He-Ne лазера. При визначенні ефективності збудження ППП було враховано резонансні значення не лише дзеркального відбивання, а і відбивання в мінус першому порядку дифракції (-1ПД). Для визначення форми профілю штрихів і глибини рельєфу гратки використовувався атомно-силовий мікроскоп. Встановлено, що залежність інтегрального плазмонного поглинання від глибини модуляції гратки (h/a) описується дещо асиметричною кривою з широким максимумом, положення якого відповідає значенню h/a близько 0,07, та напівшириною біля 0,123. Це дозволяє збуджувати ППП з ефективністю >> 80 % від максимального значення на гратках з інтервалу h/a від 0,05 до 0,105. Напівширина плазмонного мінімуму відбивання в -1ПД є меншою, ніж в дзеркальному відбиванні, що може забезпечити більшу чутливість сенсорних приладів при реєстрації зміщення мінімуму за кутовими вимірами. Залежність напівширини мінімумів відбивання ППП від глибини модуляції граток близька до квадратичної. В дослідженому діапазоні h/a (від 0,009 до 0,194) максимальний динамічний діапазон зміни коефіцієнта відбиття складає два порядки величини і досягається при дзеркальному відбиванні для граток з h/a = 0,075.
Попередній перегляд:   Завантажити - 472.116 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського