Простий
пошук
Розширений
пошук
Покажчики
Професійний
пошук
Рубрикатор
НБУВ
Розподілений
пошук

Бази даних

Наукова періодика України - результати пошуку

Книжкові видання та компакт-диски
Журнали та продовжувані видання
Автореферати дисертацій
Реферативна база даних
Наукова періодика України
Тематичний навігатор
Авторитетний файл імен осіб
Mozilla Firefox Для швидкої роботи та реалізації всіх функціональних можливостей пошукової системи використовуйте браузер
"Mozilla Firefox"
Вид пошуку
Повнотекстовий пошук
 Знайдено в інших БД:Книжкові видання та компакт-диски (2)Реферативна база даних (58)
Список видань за алфавітом назв:
A  B  C  D  E  F  G  H  I  J  L  M  N  O  P  R  S  T  U  V  W  
А  Б  В  Г  Ґ  Д  Е  Є  Ж  З  И  І  К  Л  М  Н  О  П  Р  С  Т  У  Ф  Х  Ц  Ч  Ш  Щ  Э  Ю  Я  

Авторський покажчик    Покажчик назв публікацій


Пошуковий запит: (<.>A=Нищенко М$<.>)
Загальна кількість знайдених документів : 7
Представлено документи з 1 до 7
1.

Васильев М. А. 
Лазерная модификация поверхности титановых имплантатов [Електронний ресурс] / М. А. Васильев, М. М. Нищенко, П. А. Гурин // Успехи физики металлов. - 2010. - Т. 11, № 2. - С. 209-247. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/UPhM_2010_11_2_4
Основными материалами для изготовления дентальных и ортопедических имплантатов являются технически чистый титан и его сплавы. В настоящее время развиваются различные методы обработки металлических поверхностей с целью улучшения их биосовместимых свойств и ускорения процесса заживления титановых имплантатов. В последние годы возникло новое перспективное направление, связанное с применением лазерной технологии для обработки металлических материалов с целью улучшения биосовместимых, трибологических и коррозионных свойств поверхности металлических имплантатов. С помощью такой технологии можно решить задачи модификации комплекса поверхностных свойств, в частности, титановых имплантатов. В настоящем обзоре проведен анализ работ, посвященных исследованиям влияния лазерной обработки поверхности титановых имплантатов с точки зрения различных аспектов проблемы биосовместимости (эксперименты in vitro и in vivo). Целью обзора является ознакомление читателей с некоторыми работами последних лет, выполненными зарубежными авторами в области лазерной модификации структуры, физико-химических и физико-механических свойств поверхности титановых имплантатов, а также исследования их влияния на поведение клеточных культур и взаимодействия с костными тканями.
Попередній перегляд:   Завантажити - 3.555 Mb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
2.

Сидорченко И. М. 
Формирование эффективных эмиттеров электронов при лазерном испарении ориентированных углеродных нанотрубок [Електронний ресурс] / И. М. Сидорченко, Д. В. Щур, М. М. Нищенко, Н. А. Шевченко, В. А. Боголепов, А. Г. Дубовой // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології. - 2012. - Т. 10, Вип. 1. - С. 169-176. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/Nano_2012_10_1_22
Исследованы процессы эмиссии электронов с поверхности ориентированных углеродных нанотрубок на Ni-подложке под действием импульсного лазерного излучения миллисекундной длительности. При значении энергии лазерного импульса <$E E~symbol У~0,3> Дж происходит испарение углеродных нанотрубок с поверхности Ni-подложки и осаждение углерода на молибденовом аноде в виде слоя, состоящего из сферических наночастиц размерами от 50 до 500 нм. Это приводит к смене знака эмиссионного тока (эмиссия с анода на катод). Образовавшаяся на Mo-аноде структура является более эффективным эмиттером по сравнению с эмиттером из плотноупакованных ориентированных многослойных нанотрубок на Ni-подложке.
Попередній перегляд:   Завантажити - 585.926 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
3.

Нищенко М. М. 
Позитронна спектроскопія композитів політетрафторетилен—вуглецеві нанотрубки [Електронний ресурс] / М. М. Нищенко, Є. А. Цапко, В. Ю. Кода, В. С. Михаленков, Г. П. Приходько, Ю. І. Семенцов, Р. В. Мазуренко, С. М. Махно // Металлофизика и новейшие технологии. - 2013. - Т. 35, № 9. - С. 1167-1174. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MPhNT_2013_35_9_4
Попередній перегляд:   Завантажити - 261.963 Kb    Зміст випуску     Цитування
4.

Нищенко М. М. 
Отражение медленных электронов от графена на грани (110)W [Електронний ресурс] / М. М. Нищенко, С. В. Смольник, Н. А. Шевченко // Металлофизика и новейшие технологии. - 2015. - Т. 37, № 1. - С. 67-78. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MPhNT_2015_37_1_7
С помощью методов спектроскопии полного тока и контактной разницы потенциалов в варианте Андерсона изучалось влияние ступенчатого нагрева в диапазоне 1300 - 2800 К в вакууме до <$E5~cdot~10 sup -10> Па на работу выхода <$Ephi> и отражение медленных электронов (Е = 0 - 50 эВ) от грани (110)W. Установлено, что при 2400 К на ней формируется монослой углерода (графен) с <$Ephi~=~5,08~symbol С~0,02> эВ в результате сегрегации его из объема. Повышение температуры до 2800 К и обработка в кислороде удаляют углерод, и образуется атомарно-чистая грань (110)W с <$Ephi~=~5,30> эВ. Наблюдаются пики коэффициента отражения электронов от этих поверхностей. Установлено, что их энергетическое положение (E) пропорционально квадрату порядкового номера (n) пика, что объясняется квантово-размерными эффектами при надбарьерном отражении электронов. Для грани (110)W наблюдается 3 пика, интенсивности которых с ростом n убывают от 45 до 18 %, а для графена на ней - 6 пиков (при этом интенсивности первых двух падают до 10 %).Изучено влияние сегрегации углерода на нагретой в сверхвысоком вакууме атомно-чистой поверхности Mo(110) на отражение медленных (0 - 50 эВ) электронов методом спектроскопии полного тока (СПТ) и работу выхода <$E phi> методом контактной разности потенциалов. В процессе отжига при Tотж = 1400 - 2000 K величина <$E phi> плавно снижается на <$E DELTA phi~=~0,18> эВ (до 4,82 +- 0,02 эВ), что сопровождается монотонным сдвигом двух основных минимумов в СПТ навстречу друг другу на <$E DELTA E~=~1,2> эВ до значений E = 4,8 и 12,5 эВ, характерных для возбуждения в графене плазмонов в <$E pi>-зоне проводимости и (<$E pi~+~sigma>)-валентной зоне соответственно. Минимумы свидетельствуют об эмиссии электронов в обратном направлении; их сдвиги вызваны смещением энергии <$E pi>-зоны проводимости вверх, а <$E sigma>-валентной зоны - вниз. Отжиг при Tотж = 2200 - 2700 K не изменяет значение <$E phi> и все параметры СПТ, а состояние такой поверхности становится термодинамически стабильным для графена на Mo(110). Последний увеличивает число пиков отражения электронов от трех до пяти и снижает в несколько раз коэффициент их отражения, который спадает практически до нуля при повышении E.
Попередній перегляд:   Завантажити - 281.955 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
5.

Васильев М. А. 
Влияние импульсного лазерного излучения на состав поверхностных слоёв титанового сплава ВТ6 [Електронний ресурс] / М. А. Васильев, С. П. Ченакин, М. М. Нищенко, Л. Ф. Яценко // Металлофизика и новейшие технологии. - 2015. - Т. 37, № 7. - С. 861-870. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MPhNT_2015_37_7_3
С помощью метода рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии исследован состав приповерхностного слоя титанового сплава ВТ6 после импульсной лазерной (Nd:YAG) обработки на воздухе. Полученные данные свидетельствуют об интенсивном окислении поверхности с образованием слоя, содержащего смесь оксидов TiO2, Ti2O3, Al2O3, VO1+x и поверхностные карбиды Ti - C, Al - С, V - С. Установлено, что лазерное облучение сплава ВТ6 на воздухе приводит к существенному изменению поверхностного электрохимического потенциала сплава в растворе искусственной слюны, обусловленному повышением коррозионной стойкости модифицированной поверхности.
Попередній перегляд:   Завантажити - 1.02 Mb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
6.

Нищенко М. М. 
Отражение медленных электронов от графена на грани (110)Mo [Електронний ресурс] / М. М. Нищенко, С. В. Смольник, Н. А. Шевченко // Металлофизика и новейшие технологии. - 2015. - Т. 37, № 9. - С. 1183-1201. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MPhNT_2015_37_9_5
С помощью методов спектроскопии полного тока и контактной разницы потенциалов в варианте Андерсона изучалось влияние ступенчатого нагрева в диапазоне 1300 - 2800 К в вакууме до <$E5~cdot~10 sup -10> Па на работу выхода <$Ephi> и отражение медленных электронов (Е = 0 - 50 эВ) от грани (110)W. Установлено, что при 2400 К на ней формируется монослой углерода (графен) с <$Ephi~=~5,08~symbol С~0,02> эВ в результате сегрегации его из объема. Повышение температуры до 2800 К и обработка в кислороде удаляют углерод, и образуется атомарно-чистая грань (110)W с <$Ephi~=~5,30> эВ. Наблюдаются пики коэффициента отражения электронов от этих поверхностей. Установлено, что их энергетическое положение (E) пропорционально квадрату порядкового номера (n) пика, что объясняется квантово-размерными эффектами при надбарьерном отражении электронов. Для грани (110)W наблюдается 3 пика, интенсивности которых с ростом n убывают от 45 до 18 %, а для графена на ней - 6 пиков (при этом интенсивности первых двух падают до 10 %).Изучено влияние сегрегации углерода на нагретой в сверхвысоком вакууме атомно-чистой поверхности Mo(110) на отражение медленных (0 - 50 эВ) электронов методом спектроскопии полного тока (СПТ) и работу выхода <$E phi> методом контактной разности потенциалов. В процессе отжига при Tотж = 1400 - 2000 K величина <$E phi> плавно снижается на <$E DELTA phi~=~0,18> эВ (до 4,82 +- 0,02 эВ), что сопровождается монотонным сдвигом двух основных минимумов в СПТ навстречу друг другу на <$E DELTA E~=~1,2> эВ до значений E = 4,8 и 12,5 эВ, характерных для возбуждения в графене плазмонов в <$E pi>-зоне проводимости и (<$E pi~+~sigma>)-валентной зоне соответственно. Минимумы свидетельствуют об эмиссии электронов в обратном направлении; их сдвиги вызваны смещением энергии <$E pi>-зоны проводимости вверх, а <$E sigma>-валентной зоны - вниз. Отжиг при Tотж = 2200 - 2700 K не изменяет значение <$E phi> и все параметры СПТ, а состояние такой поверхности становится термодинамически стабильным для графена на Mo(110). Последний увеличивает число пиков отражения электронов от трех до пяти и снижает в несколько раз коэффициент их отражения, который спадает практически до нуля при повышении E.
Попередній перегляд:   Завантажити - 431.976 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
7.

Дудник С. Ф. 
Эмиссионные характеристики легированных азотом наноструктурных алмазных покрытий, синтезированных в плазме тлеющего разряда [Електронний ресурс] / С. Ф. Дудник, К. И. Кошевой, М. М. Нищенко, С. В. Смольник, В. Е. Стрельницкий, Н. А. Шевченко // Металлофизика и новейшие технологии. - 2015. - Т. 37, № 11. - С. 1487-1501. - Режим доступу: http://nbuv.gov.ua/UJRN/MPhNT_2015_37_11_6
Исследованы эмиссионные характеристики легированных азотом наноструктурных алмазных покрытий с удельным сопротивлением в диапазоне <$E2,3~cdot~10 sup 4 ~-~4~cdot~10 sup 1 ~roman {Ом~cdot~см}>, полученных в плазме тлеющего разряда в различных условиях. Показано, что эмиссионный ток с поверхности образцов появляется после удаления примесей при отжиге в интервале 603 - 818 К, создающих поверхностные акцепторные электронные состояния p-типа, влияющие на работу выхода, определяемую с помощью метода контактной разницы потенциалов по смещению вольт-амперной характеристики. Для наноструктурного алмазного покрытия с удельным сопротивлением <$E2,4~cdot~10 sup 2 ~roman {Ом~cdot~см}> получено наиболее низкое значение работы выхода 1,28 эВ и наибольшая плотность тока 6,9 мА/см<^>2 при 963 К.
Попередній перегляд:   Завантажити - 529.308 Kb    Зміст випуску    Реферативна БД     Цитування
 
Відділ наукової організації електронних інформаційних ресурсів
Пам`ятка користувача

Всі права захищені © Національна бібліотека України імені В. І. Вернадського