Досліджено термічну стабільність надтвердого полікристалічного алмазного (UHPCD) композиційного матеріалу, отриманого армуванням полікристалічного алмазу після хімічного осадження (CVD) алмазу в потоці аргону при 1200 <$E symbol Р>С. Для порівняння твердості, С - С-структури і зносостійкості необробленого та термообробленого UHPCD було досліджено заглиблення індентора, спектри комбінаційного розсіювання та знос. Показано, що твердість CVD-алмазу в UHPCD досягає <$E 133~symbol С~7> ГПа після дії високого тиску і високої температури, а після термообробки зменшується до <$E 109~symbol С~3> ГПа, зносостійкість UHPCD після термообробки зменшується від 0,17 до 0,6 мг/км. Звуження напівширини і зсув піку комбінаційного розсіювання в область низьких частот CVD-алмазу в термообробленому UHPCD характеризує зменшення кристалічних структурних дефектів і напружень стиску, що призводить до зниження твердості CVD-алмазу в термообробленому UHPCD. Вища швидкість зносу термообробленого UHPCD пов'язана з більш низькою твердістю.