Умаров Ф. Ф. Моделирование на ЭВМ имплантации ионов низких энергий в монокристаллы металлов и полупроводников в условиях каналирования / Ф. Ф. Умаров, А. М. Расулов, А. Х. Хайдаров, Д. У. Юсупов // Укр. фіз. журн. - 1999. - 44, № 7. - С. 830-837. - Библиогр.: 14 назв. - рус.За допомогою комп'ютерного моделювання детально досліджено динаміку змін характеру траєкторій, величин пробігів і втрат енергії канальованих іонів у залежності від ступеня віддалення прицільних точок від осі каналу в напрямку атомів, що утворюють стінки каналу, роду іонів, кута між віссю і напрямком руху іонів, початковою енергією, виду потенціалу взаємодії і температури кристала. Встановлено, що у випадку не занадто важких іонів для параксіальної частини пучка навіть в області низьких енергій основний внесок у загальні витрати дають непружні втрати енергії. Розроблено просту модель розрахунку на ЕОМ профілів розподілу відносно важких іонів і низьких енергій, прониклих у монокристали в умовах каналювання. Індекс рубрикатора НБУВ: В378.712 + В379.271
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|