Battiston G. A. Kinetic studies in a hot-wall MOCVD reactor = Кінетичне дослідження хімічного осадження металоорганічних сполук з газової фази в реакторі з нагрітими стінками / G. A. Battiston, R. Gerbasi, P. Zanella // Укр. хим. журн. - 1999. - 65, № 5. - С. 5-12. - Библиогр.: 10 назв. - англ.Розглянуто один з головних аспектів LP-MOCVD (хімічне осадження з парової фази при низькому тиску) - кінетика росту тонких плівок. Термічний розклад вихідних речовин вивчено з допомогою інфрачервоної Фур'є-спектроскопії газової фази. Досліджено протікання паралельних реакцій в однорідній газовій або неоднорідній газово-твердій фазі, які складаються з ряду послідовних стадій. Полікристалічні тонкі плівки TiO2 отримано за відсутності кисню з використанням Ti(OPr-i)4) як вихідної речовини. Аморфні чорні (забруднені вуглецем) та гладкі плівки Al2O3 одержано в присутності кисню з Et2Alacac, а полікристалічні плівки Pt (не забруднені вуглецем) - з Pt(acac)2. Моделі добре передбачають швидкості осадження, відносячи до лімітуючої стадії енергію активації 126 кДж/моль для росту тонких плівок TiO2, 97 кДж/моль - для плівок Al2O3 і коефіцієнт дифузії 1062 см2/хв - для росту тонких плівок Pt. Індекс рубрикатора НБУВ: Г445.25
Шифр НБУВ: Ж21854 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|