Войциховский Д. И. Влияние быстрого термического отжига и gamma-радиации на механизм формирования границы раздела TiB2 - n - n+ - Si / Д. И. Войциховский // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. - 2000. - Вып. 35. - С. 134-139. - Библиогр.: 4 назв. - рус.
Исследованы электрические свойства, термическая и радиационная стойкость структуры Au - Mo - TiB2 - n - n+ - Si. Показана пригодность использования борида титана в качестве материала для создания высококачественных диодов с переходом Шоттки на основе кремния. Рассмотрены наиболее возможные механизмы влияния на электрофизические параметры барьерной структуры. Показаны геометрическое распределение и изменение электрических параметров вследствие облучения по плоскости и диагонали тестовой пластины.
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"