Рассмотрено влияние методов термического испарения, ионно-плазменного магнетронного распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка на характеристики поверхности фотонных кристаллов. Приведены схемы процессов формирования тонких пленок на опаловых матрицах и конструкции технологической оснастки. Представлены результаты измерения электрического сопротивления пленок и характеристики топографии поверхности образцов фотонных кристаллов, полученные с помощью атомно-силового микроскопа.

The influence of such methods as thermal evaporation, ion-plasma magnetron sputtering, ion-beam deposition on properties of photon crystal surface was examined.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"