Панфилов Ю. В. Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала / Ю. В. Панфилов, М. И. Самойлович, Е. В. Булыгина // Технология и конструирование в электрон. аппаратуре. - 2005. - № 2. - С. 49-52. - Библиогр.: 2 назв. - рус.Рассмотрено влияние методов термического испарения, ионно-плазменного магнетронного распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка на характеристики поверхности фотонных кристаллов. Приведены схемы процессов формирования тонких пленок на опаловых матрицах и конструкции технологической оснастки. Представлены результаты измерения электрического сопротивления пленок и характеристики топографии поверхности образцов фотонных кристаллов, полученные с помощью атомно-силового микроскопа. The influence of such methods as thermal evaporation, ion-plasma magnetron sputtering, ion-beam deposition on properties of photon crystal surface was examined. Ключ. слова: тонкие пленки, фотонный кристалл, опаловая матрица, термическое испарение, ионно-плазменное распыление, ионно-лучевое осаждение. Індекс рубрикатора НБУВ: З843.395-06
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж14479 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|