Рассмотрено несколько способов компенсации систематических погрешностей конструктивных параметров тонкопленочных резисторов, определяющих выход годных микросборок. Предложена компенсация путем изменения размеров элементов фотошаблона по определенным алгоритмам, которая позволит значительно уменьшить размеры всех тонкопленочных элементов без уменьшения процента выхода годных микросборок.

Several methods of compensation for systematic errors of the thin-film resistor design values which defim the yield of effective micromodules are discussed. The compensation by means of changing dimensions of mask elements using certain algorithms is proposed that permits to reduce dimensions of all the thin-film components without reduction of the yield of effective micromodules.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"