Приведены основы метода контролируемого анодного окисления ("анодной спектроскопии"), методики его применения, результаты исследований многослойных тонкопленочных структур. Получены и проанализированы профили анодирования структур, сформированных при осаждении пленок Nb и Al электронно-лучевым способом и магнетроном, с формированием барьерного оксида AlOx термическим окислением и в тлеющем разряде магнетрона. Продемонстрировано применение метода для контроля формирования наноструктурированных анодных пленок оксида алюминия. Показана плодотворность метода для экспресс-контроля тонкопленочных технологий.

The base of controlled anodic oxidation method ("anodization spectroscopy"), technics of using, investigation results for multilayered thin film structures are represented. The anodization profiles of structures manufactured by electron beam deposition and magnetron sputtering of Nb and Al films with AlOx barrier formed by thermal and magnetron plasma oxidation. Using of the method for monitoring of nanostructured anodic oxide films on aluminium is demonstrated. Possibilities of the method for express-control of thin film technologies are shown

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"