Ёдгорова Д. М. Определение характеристик двухбарьерных фотодиодных структур с металлополупроводниковыми переходами / Д. М. Ёдгорова, А.В.Каримов // Технология и конструирование в электрон. аппаратуре. - 2005. - № 5. - С. 27-30. - Библиогр.: 8 назв. - рус.На основе экспериментальных данных вольт-амперной характеристики по зависимости сопротивления от напряжения в двухбарьерных m-рGaAs-nGdS- и модернизированных m-рGaAs-рGaAs-nGdS-структурах проведен расчет перераспределения напряжения между прямо- и обратносмещаемыми переходами. Полученные данные могут быть использованы для оценки частотного диапазона, зависимости фоточувствительности от поля, выявления механизмов фоточувствительности двухбарьерных структур с металлополупроводниковыми переходами. On dependence of resistance on a voltage the account of redistribution of a voltage between directly and back by movable transitions is carried out on the basis of experimental data voltampere of the characteristic two-barrier m-рGaAs-nGdS- and modernized m-рGaAs-рGaAs-nGdS-structures. The received data could be used for a rating frequency of a range, dependence of photosensitivity on a field, to reveal mechanisms of photosensitivity of two-barrier structures with metal-semiconductor by transitions. Ключ. слова: двухбарьерная структура, перераспределение напряжения, слой объемного заряда, гетеропереход, металлополупроводниковый переход. Індекс рубрикатора НБУВ: З854.22
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж14479 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|