Досліджено характер хімічного травлення нелегованого та легованого CdTe і твердих розчинів <$Eroman {Cd sub 0,2 Hg sub 0,8 Te,~Zn sub 0,04 Cd sub 0,96 Te}> та <$Eroman {Zn sub 0,2 Cd sub 0,8 Te}> бромвидільними розчинами системи <$Eroman {H sub 2 O sub 2 }> - HBr - ЕГ, виявлено концентраційні залежності швидкості розчинення та побудованоповерхні однакових швидкостей травлення (діаграми Гіббса). Визначено лімітні стадії процесу розчинення та оптимізовано склади полірувальних травників і режими проведення хіміко-динамічного полірування зазначених матеріалів.

The nature of chemical etching of undoped and doped CdTe and <$Eroman {Cd sub 0,2 Hg sub 0,8 Te,~Zn sub 0,04 Cd sub 0,96 Te}> and <$Eroman {Zn sub 0,2 Cd sub 0,8 Te}> solid solutions using the bromine emerging solutions of the <$Eroman {H sub 2 O sub 2 }> - HBr - glycol system is investigated, the concentration dependences of the dissolution rate were determined and the surfaces of equal etching rates (Gibbs diagrams) were built. The limiting dissolution stages were defined, the polishing etchant compositions and the conditions of chemical dynamic polishing of mentioned above materials were optimized.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"