Висвітлено технологічні засади очистки та вирощування кристалів. Наведено загальну характеристику технології створення виробів електронної техніки. Розкрито фізико-хімічні основи матеріалознавства напівпровідників. Розглянуто основні методи очистки напівпровідникових матеріалів (через парову фазу, сублімація, дистиляція, кристалізація). Запропоновано технологію одержання монокристалів напівпровідникових і діелектричних матеріалів. Розглянуто основні технологічні операції виробництва напівпровідникових інтегральних мікросхем. Висвітлено фізико-хімічні основи технологій вирощування монокристалічного кремнію, а також створення напівпровідникових і гібридних інтегральних мікросхем. Описано фізико-хімічні процеси в металевих провідниках і контактах.

Освещены технологические основы очистки и выращивания кристаллов. Дана общая характеристика технологии создания изделий электронной техники. Раскрыты физико-химические основы материаловедения полупроводников. Рассмотрены основные методы очистки полупроводниковых материалов (через паровую фазу, сублимация, дистиляция, кристаллизация). Приведена технология получения монокристаллов полупроводниковых и диэлектрических материалов. Рассмотрены основные технологические операции производства полупроводниковых интегральных микросхем. Освещены физико-химические основы технологий выращивания монокристаллического кремния,а также создания полупроводниковых и гибридных интегральных микросхем. Описаны физико-химические процессы в металлических проводниках и контактах.

• Хомяк Володимир Васильович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"