Афанасьєва Т. В. Взаємодія молекулярного кисню з поверхнею кремнію <$E bold roman {Si(001)2~times~1}>. Вплив початкового заряду / Т. В. Афанасьєва, В. О. Главацький, І. П. Коваль, М. Г. Находкін // Укр. фіз. журн. - 2001. - 46, № 12. - С. 1280-1283. - Бібліогр.: 14 назв. - укp.Досліджено процес адсорбції молекули кисню на поверхню кремнію <$E roman Si(001)2~times~1> над рядом димерів кремнію за допомогою напівемпіричного методу MNDO-PM3. Розглянуто адсорбцію молекули кисню на чисту поверхню кремнію, поверхню з початковим зарядом Q = -1e та поверхню з атомом Вi. Знайдено енергії активації дисоціації кисню на поверхні Si(001): 0,88; 0,85; 0,45 і 0,51 еВ відповідно для синглетного та триплетного станів системи, стану з початковим зарядом і в присутності Вi. Проаналізовано вплив початкового заряду на процес дисоціації молекули кисню. Показано, що ймовірність окиснення залежить від присутності заряду на поверхні. Індекс рубрикатора НБУВ: Г583.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|