Виміряно залежності дифракційної ефективності від експозиції для голограмних граток, записаних на халькогенідних резистах, що зберігались протягом різного часу за умови кімнатної температури. Досліджено характеристики одержаних граток: форму профілю штрихів, спектральну та кутову залежності дифракційної ефективності. Визначено умови одержання граток з максимальною дифракційною ефективністю залежно від часу зберігання фоторезистів. Установлено, що форма профілю штрихів граток за оптимальної експозиції є близькою до синусоїди, дифракційна ефективність граток становить приблизно 80 % у поляризованому світлі, а також, що фоторезисти на основі халькогенідних шарів As40Se60 та As40S20Se40 придатні для запису періодичних голограмних структур протягом принаймні 30 діб з дня виготовлення.

• Минько Віктор Іванович (фізико-математичні науки)
• Шепелявий Петро Євгенович (технічні науки)
• Індутний Іван Захарович (1949–) (фізико-математичні науки)
• Литвин Оксана Степанівна (фізико-математичні науки)
• Данько Віктор Андрійович (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"