За допомогою методів рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії та резистометрії досліджено твердофазні реакції в тонкоплівковій системі 200 нм Ti/200 нм Ni/(001) Si. Визначено вплив титану на термостабільність NiSi. Плівкову систему одержано електронно-променевим послідовним осадженням у вакуумі <$E 2~cdot~10 sup -6> торр шару нікелю та шару титану на підкладку кремнію без розвакуумування. Вакуумні відпали зразків проводили в температурному інтервалі 470 - 1 270 К упродовж 1 год. Установлено, що після відпалу 470 К в плівці утворено плоскі аморфні частинки розміром 200 нм, які не мають чіткої огранки, але після відпалу вищого від 670 К починають кристалізуватися в фазу NiSi. Встановлено, що починаючи з 670 К формується інтерметалідна фаза Ni3Ti. Після відпалу 1 070 К, 1 год фаза NiSi існує без переходу в NiSi2, а її стабільність підтверджується низьким значенням питомого електроопору порядку <$E 9 roman {мкОм~cdot~см}>, який не змінюється навіть у разі збільшення часу відпалу до 2 год. Зазначено, що лише підвищення температури відпалу до 1 270 К призводить до появи в плівці невеликої кількості дисиліциду нікелю. Фаза NiSi залишається домінуючою.

• Сидоренко Сергій Іванович (1947–) (технічні науки)
• Сидоренко Сергій Іванович (1966–) (філологічні науки)
• Нестеренко Юрій Валерійович (технічні науки)
• Нестеренко Юлія Вікторівна (філологічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"