Васильев М. А. Моделирование послойного анализа многослойных структур при ионном распылении / М. А. Васильев, А. Г. Блащук, И. Н. Макеева, В. А. Тиньков // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології. - 2004. - 2, Вип. 1. - С. 195-201. - Библиогр.: 10 назв. - рус.Розроблено алгоритм оберненої згортки для моделювання пошарового аналізу під час іонного розпилення багатошарових тонкоплівкових структур. У цьому випадку використано метод умовного градієнта з урахуванням апріорної інформації про характер монотонності концентраційного профілю. Встановлено, що математичне моделювання дає змогу істотно зменшити спотворення істинної форми концентраційного профілю. Ключ. слова: послойный анализ, ионное распыление, алгоритм обратной свёртки, разрешающая способность, электронная оже-спектроскопия Індекс рубрикатора НБУВ: В374.7 + В372.6в641.8
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|