За допомогою різноманітних методів реактивного напилювання одержано тонкі плівки нітриду титану й алюмінію, що містять із зовнішнього боку або оксид титану, або оксид алюмінію. За температури напилювання біля 80 <$E symbol Р >C плівки нітридів виявляються епітаксіально пов'язаними з монокристалічним підгрунтям Si. Нітриди TiN і AlN та оксиди ростуть переважно шар за шаром і, за винятком нітриду AlN, із помітним габітусом. Корпускулярне легування дає можливість одержувати плівки із сильною адгезією на поверхні підгрунтя, особливо на Si. Максимальний питомий опір прошарку у випадку мішені алюмінію складав 10 <$E roman {мкОм~cdot~м> й <$E 2,4~cdot~10 sup -6~roman {мкОм~cdot~м}> - у випадку мішені титану.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"