Досліджено формування силіцидів титану, які утворюються під час термоіонного осадження титану на монокристалічний кремній. Показано залежність фазового складу (<$E roman {Ti~symbol О~Ti~+~Ti sub 5 Si sub 3~symbol О~Ti~+~TiSi sub 2~symbol О~TiSi sub 2}>) і товщини шарів від часу конденсації за умов постійної міцності іонного бомбардування та потоку нейтральних частинок на підкладку. Встановлено, що часова залежність товщини сформованої плівки має сигмоподібний характер, але на початковому етапі конденсації вона лінійна, потім описується рівнянням Аврамі, а на кінцевій стадії товщина змінюється згідно з параболічною залежністю, що відповідає звичайній реактивній дифузії. Визначено величину коефіцієнта дифузії кремнія в титанову плівку, що дорівнює <$E 4~cdot~10 sup -16~roman {м sup 2~cdot~c sup -1> на стадії зародження та зростання кристалітів силіцидних фаз, а також на стадії формування суцільного шару TiSi2.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"