Ilyina V. V. The cumulant analysis of the distribution of implanted ions = Кумулянтний аналіз розподілу імплантованих іонів / V. V. Ilyina, M. V. Makarets' // Укр. фіз. журн. - 2004. - 49, № 8. - С. 812-820. - Библиогр.: 13 назв. - англ.Метод аналізу рівнянь Ліндхарда - Шарффа - Шіотта, раніше запропонований для розподілу повних пробігів імплантованих іонів, використано для пошуку параметрів їх просторового розподілу. Одержано інтегральні рівняння для перших восьми кумулянтів і знайдено їх числові розв'язки для однокомпонентних мішеней у діапазоні енергій від 100 еВ до 1 ГеВ. Установлено загальні закономірності в залежностях параметрів розподілу від енергії іонів, показано, що підгонка розподілів до експериментальних даних може зумовлювати значні скорельовані похибки знайдених параметрів. Метод дозволяє врахувати всі моменти розподілу для знаходження атом-атомної взаємодії. Індекс рубрикатора НБУВ: В314.34
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|