Grigonis A. Changes on the silicon surface radiating it by halocarbon and/or hydrogen Plasma = Зміни на кремнієвій поверхні, опроміненій гало-вуглецевою і/або водневою плазмою / A. Grigonis, Z. Rutkuniene, H. Manikowski, M. Kulik // Фізика і хімія твердого тіла. - 2004. - 5, № 2. - С. 229-233. - Библиогр.: 22 назв. - англ.Показано, що утворення полімерів на основі вуглецевого галогену, не домінує на поверхні у разі травлення кремнію в плазмі CF2Cl2. Плівки <$E {roman A-Si} sub x {roman C} sub 1-x : roman H:F>, сформовані на поверхні кремнію, оброблено в плазмі СF4 + H2. Концентрація домішок і переважаючі зв'язки залежать від умов опромінення та його тривалості. Концентрація вільних зв'язків у структурі зростає із збільшенням потужності опромінення. Еліпсометричні вимірювання опромінених структур показали, що у ході аналізу можна використовувати 4-шарову модель. Ключ. слова: silicon, surface, plasma Індекс рубрикатора НБУВ: Г714 + Г59 + В379.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|