За допомогою методів рентгенівської дифракції, просвічувальної електронної мікроскопії поперечних зрізів і резистометрії досліджено твердофазні реакції в тонкоплівковій системі (200 нм) Ni/(200 нм) Ti/(001)Si. Досліджено вплив титану на утворення та термічну стійкість силіциду нікелю NiSi. Плівкову систему було одержано електронно-променевим послідовним осадженням у вакуумі <$E 1,5~cdot~10 sup -8> Па шарів титану та нікелю на підкладку кремнію без розвакуумування. Відпали зразків проведено в вакуумі <$E 3~cdot~10 sup -4> Па в температурному інтервалі 470 - 1 270 K тривалістю від 1 до 17 год. Рентгенофазовим аналізом виявлено, що першою фазою, яка утворюється в плівці Ni/Ti на Si(OOl) після відпалу за 670 К, є інтерметалідна фаза Ni3Ti. Рефлекси моносиліциду нікелю NiSi з'являються після відпалу за 870 K. Відпал за 1 170 K супроводжується утворенням потрійної сполуки Ni4Si7Ti4. Виявлено, що фаза NiSi існує без переходу в дисиліцид нікелю NiSi2 до температури 1 270 K.

• Сидоренко Сергій Іванович (1947–) (технічні науки)
• Сидоренко Сергій Іванович (1966–) (філологічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"