Представлена высоковакуумная установка для получения тонких пленок металлов, основным конструкционным элементом которой является охлаждаемый электронно-лучевой испаритель. Криогенная система откачки позволяет в зависимости от использования жидкого водорода или азота получить фоновое давление в рабочей камере порядка ~<$E 2~times~10 sup -7> Па или ~<$E 5~times~10 sup -6> Па, соответственно. При напылении пленок давление в камере испарителя возрастает, но при этом не превышает ~<$E 5~times~10 sup -6> Па или ~<$E 2~times~10 sup -5> Па в зависимости от используемого хладагента. Предварительное разрежение в экспериментальной камере до давления ~<$E 3~times~10 sup -5> Па создается турбомолекулярным и магниторазрядным насосами. На данной установке получены пленки никеля, титана и палладия. Анализ химического состава пленок, выполненный с помощью оже-электронной спектроскопии показал, что предложенная установка обеспечивает процесс напыления тонких пленок металлов с содержанием газовых примесей не более <$E 2~times~10 sup -4> ат. %.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"