Варенцов М. Д. Відпал кластерів дефектів у зразках Si та <$E bold roman {Si symbol ... Ge symbol ъ}>, вирощених методом Чохральського / М. Д. Варенцов, Г. П. Гайдар, О. П. Долголенко, П. Г. Литовченко // Укр. фіз. журн. - 2007. - 52, № 4. - С. 372-377. - Бібліогр.: 20 назв. - укp.Досліджено зразки кремнію n-типу провідності, вирощеного за допомогою методу Чохральського (Cz-Si), із домішкою германію (<$E N sub roman Ge~=~2~cdot~10 sup 20~roman см sup -3>) і без неї після опромінювання швидкими нейтронами реактора. Вивчено відпал <$E n- roman {Si symbol ... Ge symbol ъ}> після опромінювання флюенсом <$E 1,4~cdot~10 sup 14> нейтр./<$E roman см sup 2> за трьох температур. Показано, що відпал кластерів дефектів (ВКД) пов'язаний із анігіляцією дефектів вакансійного типу у кластерах із міжвузловинними дефектами. Розглянуто ВКД у нейтронно-опромінених зразках Cz-Si n-типу під дією <$E gamma>-квантів. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26988 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|