Марченко И. Г. Влияние ионного облучения на внутренние микронапряжения в пленках ниобия. Компьютерное моделирование / И. Г. Марченко // Вісн. Харк. нац. ун-ту. Сер. фіз. "Ядра, частинки, поля". - 2005. - 664, вип. 2. - С. 83-86. - Библиогр.: 31 назв. - рус.Методом молекулярной динамики исследовано влияние низкоэнергетического облучения собственными ионами на микронапряжения, возникающие в пленках ниобия. Ионный поток составлял 10 % от общего потока осаждаемых атомов, энергия ионов - 200 эВ. После термического осаждения пленки при температуре 300 K до толщины, при которой достигается стационарная плотность, проводили атомно-ионное осаждение пленки. Показано, что ионное воздействие приводит к изменению характера внутренних микронапряжений. Это изменение связано с образованием кластеров междоузельных атомов, образующихся в результате развития каскадов атом-атомных столкновений. Такие кластеры могут служить зародышами междоузельных дислокационных петель, которые наблюдали в экспериментах по влиянию ионного облучения на свойства пленок. Раскрыта корреляция между плотностью образуемых пленок, их микроструктурой и возникающими микронапряжениями. Ключ. слова: пленки, микронапряжения, вакуумное осаждение, ионы, моделирование, ниобий Індекс рубрикатора НБУВ: К235.140.26 + К235.140.91
Шифр НБУВ: Ж29137 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|