Круковський С. І. Механізм очистки епітаксійних шарів GaAs, InGaAsP під впливом комплексного легування розплавів рідкісноземельними елементами та алюмінієм в технології РФЕ / С. І. Круковський, А. О. Федорчук // Фізика і хімія твердого тіла. - 2006. - 7, № 4. - С. 751-762. - Бібліогр.: 25 назв. - укp.Проаналізовано взаємодію рідкісноземельних елементів (РЗЕ) та алюмінію з фоновими домішками в індієвих та галієвих розплавах за температур відпалу 1100 <$E symbol Р>С. Досліджено вплив комплексного легування розплавів галію та індію РЗЕ та алюмінієм на електрофізичні властивості шарів GaAs та InGaAsP, одержаних за температур епітаксії 640 - 700 <$E symbol Р>С. На основі досліджень запропоновано модель, що пояснює механізм аномальної "очистки" епітаксійних шарів GaAs та InGaAsP від фонових домішок гетеруванням кисню у розплавах через утворення оксидів Yb2O3, Al2O3 та подвійних оксидів Yb3Al5O12, а також впливом РЗЕ та алюмінію на перерозподіл дефектів у процесі кристалізації шарів. Індекс рубрикатора НБУВ: З843.33-06
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|