Приведено результати дослідження впливу водневої високочастотної плазми на ФЛ композитних шарів, які містять наночастки Si в матриці SiOx. Встановлено, що в результаті плазмової обробки зразків з включеннями аморфних наночасток кремнію інтенсивність ФЛ не змінюється. На шарах nc-Si-SiOx спостерігається суттєве підвищення інтенсивності випромінювання з часом обробки плазмою, цей процес виходить на насичення протягом 15 хвилин. Зростання інтенсивності ФЛ у випадку обробки плівок nc-Si-SiOx плазмою значно перевищує вплив відпалу в атмосфері водню і кратність підвищення інтенсивності випромінювання досягає 30.

• Данько Віктор Андрійович (фізико-математичні науки)
• Індутний Іван Захарович (1949–) (фізико-математичні науки)
• Майданчук Іван Юрійович (фізико-математичні науки)
• Минько Віктор Іванович (фізико-математичні науки)
• Назаров Олексій Миколайович (фізико-математичні науки)
• Ткаченко Антон Сергійович (медичні науки)
• Ткаченко Аліна Сергіївна (технічні науки)
• Шепелявий Петро Євгенович (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"