![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Книжкові видання та компакт-диски ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Журнали та продовжувані видання ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Автореферати дисертацій ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Реферативна база даних ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Наукова періодика України ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Тематичний навігатор ![](/irbis_nbuv/images/db_navy.gif) Авторитетний файл імен осіб
|
Пошуковий запит: (<.>ID=REF-0000172973<.>) |
Загальна кількість знайдених документів : 1
|
Данько В. А. Пасивація наночастинок кремнію в тонких плівках SiOx за допомогою високочастотної плазмової обробки / В. А. Данько, І. З. Індутний, B. С. Лисенко, І. Ю. Майданчук, В. І. Минько, О. М. Назаров, А. С. Ткаченко, П. Є. Шепелявий // Фізика і хімія твердого тіла. - 2006. - 7, № 4. - С. 767-770. - Бібліогр.: 12 назв. - укp.Приведено результати дослідження впливу водневої високочастотної плазми на ФЛ композитних шарів, які містять наночастки Si в матриці SiOx. Встановлено, що в результаті плазмової обробки зразків з включеннями аморфних наночасток кремнію інтенсивність ФЛ не змінюється. На шарах nc-Si-SiOx спостерігається суттєве підвищення інтенсивності випромінювання з часом обробки плазмою, цей процес виходить на насичення протягом 15 хвилин. Зростання інтенсивності ФЛ у випадку обробки плівок nc-Si-SiOx плазмою значно перевищує вплив відпалу в атмосфері водню і кратність підвищення інтенсивності випромінювання досягає 30. Індекс рубрикатора НБУВ: З843.395-06
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|
|
|