Голтв'янський Ю. В. Поліпшення фоточутливості Si-сенсорів, виготовлених методом акустостимульованої імплантації іонів бору та арсену / Ю. В. Голтв'янський, В. Ф. Мачулін, Я. М. Оліх, В. Г. Попов, Б. М. Романюк // Сенсор. електрон. і мікросистем. технології. - 2007. - № 2. - С. 3-8. - Бібліогр.: 5 назв. - укp.Досліджено спектральні характеристики кремнієвих сенсорів видимого та ультрафіолетового (УФ) випромінювання. Показано, що фоточутливість сенсорів, виготовлених за допомогою методу акустостимульованої імплантації іонів B та As, в ближній УФ області спектра на порядок перевищує чутливість аналогічних сенсорів, виготовлених без ультразвукової обробки. Дослідження профілів залягання імплантованих домішок показують, що у випадку домішки B даний ефект пояснюється зменшенням глибини p - n переходу, а у випадку As - зменшенням концентрації рекомбінаційно-активних центрів в області емітера та/або збільшенням електричної активації домішки. Запропоновано пояснення фізичних механізмів спостережуваних ефектів. Індекс рубрикатора НБУВ: З854.22
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж24835 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) ![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|