Методами оже-спектроскопии, малоугловой дифракции электронов, рентгенофазового и резистометрического анализов исследованы твердотельные реакции в тонкопленочной системе Ni (24 нм)/Ti (5 нм)/Si(001) при отжигах в проточном азоте в интервале температур 450 - 950 <$E symbol Р>C. Установлено, что реальная тонкопленочная система Ni/Ti/Si(001) представляет собой до отжига систему C/Ni/Ti/Si(001). Формирование низкоомного моносилицида NiSi происходит параллельно с образованием интерметаллида <$E roman {Ni sub 3 Ti}>, существующего во всем температурном интервале отжига, и небольшого количества моносилицида TiSi. Моносилицид никеля стабилен до 700 <$E symbol Р>C. В результате отжига при 750 <$E symbol Р>C образуется тройной силицид <$E roman {Ni sub 4 Ti sub 4 Si sub 7}>.

• Волошко Світлана Михайлівна (1960–) (фізико-математичні науки)
• Сидоренко Сергій Іванович (1947–) (технічні науки)
• Сидоренко Сергій Іванович (1966–) (філологічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"