Марченко И. Г. Физические механизмы воздействия ионов на формирования микроструктуры пленок при низкотемпературном атомно-ионном осаждении / И. Г. Марченко // Металлофизика и новейшие технологии. - 2006. - 28, № 11. - С. 1421-1432. - Библиогр.: 31 назв. - рус.Методом молекулярной динамики исследовано влияние низкоэнергетического облучения собственными ионами на микроструктуру и остаточные напряжения, возникающие в пленках ниобия при атомно-ионном осаждении. Ионный поток составлял 10 % от общего потока осаждаемых атомов; энергия ионов - 200 эВ. После термического осаждения пленки при 300 К до толщины, при которой достигается стационарная плотность, проводилось атомно-ионное осаждение пленки. Ионное воздействие приводило к повышению плотности растущей пленки, что происходит благодаря двум физическим механизмам. Результаты исследований свидетельствуют о том, что ионное воздействие изменяет характер внутренних микронапряжений. Это связано с образованием кластеров междоузельных атомов, образующихся в результате развития каскадов атом-атомных столкновений. Такие кластеры могут служить зародышами междоузельных дислокационных петель, наблюдаемых в экспериментах по изучению влияния ионного облучения на свойства пленок. Раскрыта корреляция между плотностью образуемых пленок, их микроструктурой и возникающими микронапряжениями. Індекс рубрикатора НБУВ: К663.235.4-18
Шифр НБУВ: Ж14161 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|