Проанализирована возможность получения наноструктурных пленок химических соединений. Показано, что высокодисперсные пленочные структуры продуктов твердофазных реакций независимо от метода их получения формируются в условиях высокой скорости осаждения атомов на подложку, предопределяющей высокое пересыщение, нормальный механизм роста и, как следствие, высокие скорости образования трехмерных критических зародышей нарастающей фазы и низкие скорости их бокового роста. Установлено, что пленки, полученные методом ионной имплантации, формируются в условиях небольших скоростей осаждения, растут преимущественно послойно, затрудняя образование наноструктур химических соединений.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"