Використовуючи методику ІЧ-спектроскопії та фотолюмінесценції, досліджено процес термостимульованого розділення фаз у тонких плівках SiOx в температурних межах від 300 до 1 000 <$E symbol Р>C. За температур відпалу 300 - 700 <$E symbol Р>C спостерігалась кінетика формування наночастинок. За температур 900 <$E symbol Р>C і вище процес розділення фаз завершується за час, менший 1 секунди. В межах дифузійної моделі розраховано коефіцієнти дифузії в процесі формування наночастинок кремнію. Одержані величини є на 5 - 10 порядків вищими, ніж коефіцієнт дифузії атомів кремнію в SiO2 та кристалічному кремнії, та близькими до коефіцієнтів дифузії кисню в подібних структурах. Припущено, що саме рухливість кисню лежить в основі структурних фазових перетворень в процесі термостимульованого розкладу шарів SiOx.

• Лисенко Володимир Сергійович (1940–) (фізико-математичні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"