Исследовано влияние магнитного поля планарного магнетрона на ионный ток на подложку, катод которого был расположен нормально к потоку плазмы от вакуумно-дугового источника. Исследована пробочная конфигурация результирующего магнитного поля, для которой ионный ток на подложку возрастал на 18 % по сравнению с системой без магнетрона.
Шифр НБУВ: Ж69605Пошук видання у каталогах НБУВДодаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)
Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"