Исследованы и представлены результаты влияния различной концентрации водорода в аргоново-водородной плазме на электрические и оптические свойства пленок аморфного гидрогенизированного кремния, полученных методом магнетронного распыления при площади пленок до 30 см<^>2. Значения оптической ширины запрещенной зоны и энергии активации, выращенных гидрированных полупроводниковых слоев увеличились от 1,69 до 1,75 эВ и от 0,15 до 0,25 эВ, соответственно. Однако, увеличение водорода в кремниевой структуре привело к размытию спектра и уменьшению коэффициента поглощения.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"