Быков М. А. Исследование физических процессов в аморфных кремниевых пленках при различной концентрации водорода в плазме / М. А. Быков, А. М. Быков, А. С. Мазинов, Н. И. Слипченко // Вісн. Сум. держ. ун-ту. Сер. Фізика, математика, механіка. - 2008. - № 1. - С. 176-180. - Библиогр.: 5 назв. - рус.Исследованы и представлены результаты влияния различной концентрации водорода в аргоново-водородной плазме на электрические и оптические свойства пленок аморфного гидрогенизированного кремния, полученных методом магнетронного распыления при площади пленок до 30 см<^>2. Значения оптической ширины запрещенной зоны и энергии активации, выращенных гидрированных полупроводниковых слоев увеличились от 1,69 до 1,75 эВ и от 0,15 до 0,25 эВ, соответственно. Однако, увеличение водорода в кремниевой структуре привело к размытию спектра и уменьшению коэффициента поглощения. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж69231 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|