Применение сфокусированных пучков легких ионов средних энергий, электронов и тяжелых ионов низких энергий рассмотрено в технологии изготовления низкоразмерных структур. Описаны физические принципы, лежащие в основе взаимодействия этих пучков с резистивными материалами. Оптика систем, обеспечивающих фокусировку пучков заряженных частиц, и характеристики установок даны вместе с описанием некоторых путей усовершенствования фокусировки пучков легких ионов средних энергий. Протонная пучковая литография рассмотрена как новая технология с большими потенциальными возможностями в таких приложениях как микрообработка кремния, наноштамповка, биофизика и медицина, микроструйные системы, микрофотоника и микрооптика.

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"