Проведено комплексне дослідження джерела негативних іонів водню з відбитковим розрядом. Вперше розроблено теорію, яка найбільш повно враховує усі суттєві фізичні процеси, що відбуваються у такому джерелі. Вивчено вплив питомої потужності, що вводиться у розряд, і тиску в джерелі на його основні характеристики. Пояснено відмінності у швидкості зростання концентрації негативних іонів водню для різних розрядних струмів. На підставі вивчення часових залежностей концентрацій плазмових компонент зроблено висновок про можливість збільшення концентрації негативних іонів під час роботи джерела в імпульсно-періодичному режимі. Вперше одержано розподіл компонент у проміжку між розрядною колоною та анодом, який для негативних іонів має суттєво немонотонний характер, що обумовлює існування оптимального співвідношення між радіусами розрядної колони та аноду. Досліджено вплив цезію на процеси в джерелі негативних іонів водню. На підставі експериментальних даних і теоретичних розрахунків встановлено, що у разі додавання в розряд цезію основна частина негативних іонів утворюється не в об'ємі джерела, а на його поверхні. З'ясовано, що під час даного процесу струм негативних іонів водню, який витягується з джерела, збільшується у <$E2~ symbol Ш ~3> рази.

 Автореферати дисертацій 

---

Додаткова інформація про автора(ів) публікації:
(cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці)

• Рябцев Андрій Володимирович (фізико-математичні науки)
• Рябцев Андрій В'ячеславович (економічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"