Сизов Ф. Ф. Вплив низькотемпературного відпалу на струми у фотодіодних структурах на основі КРТ / Ф. Ф. Сизов, І. О. Лисюк, Ж. В. Гуменюк-Сичевська, З. Ф. Цибрій, К. В. Андрєєва // Сенсор. електрон. і мікросистем. технології. - 2011. - 2, № 1. - С. 59-64. - Бібліогр.: 9 назв. - укp.Надано результати дії серії послідовних низькотемпературних відпалів (70, 80, 90, 100 °C тривалістю 10 годин) на розподіл струму в фотодіодних лінійках ІЧ діапазону (8 - 12 мкм), сформованих на епітаксійних плівках КРТ. Моделювання ВАХ фотодіода з урахуванням рівняння балансу носіїв заряду показало, що концентрації рекомбінаційних центрів зменшуються, а час життя неосновних носіїв заряду збільшується. Висунуто припущення, що деградація фотодіодів після відпалу з температурою 100 °C зумовлена малою товщиною епітаксійної плівки, а p - n перехід після відпалу досягає інтерфейсної межі. Індекс рубрикатора НБУВ: З854.22
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж24835 Пошук видання у каталогах НБУВ Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|