Вакуленко О. В. Глибокі рівні прилипання у гетероструктурах In0,4Ga0,6As/GaAs з квантовими точками / О. В. Вакуленко, С. Л. Головинський, С. В. Кондратенко // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології. - 2011. - 9, вип. 2. - С. 343-353. - Бібліогр.: 23 назв. - укp.В гетероструктурах In0,4Ga0,6As/GaAs с цепочками квантовых точек исследованы свойства латерального фототока, вызванного оптической перезарядкой центров электронной локализации. В кинетике фототока структур выявлены долговременная динамика нарастания и релаксации, а также эффект остаточной проводимости после выключения возбуждающего излучения. Установлено присутствие глубоких центров прилипания для электронов, которые в значительной степени влияют на транспорт носителей заряда и на процессы рекомбинации. Температурными исследованиями обнаружен эффект термостимулированной проводимости в гетероструктуре. Из анализа формы кривой термостимулированного тока получено значение глубины залегания уровня прилипания относительно зоны проводимости - 0,17 эВ. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.2
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж72631 Пошук видання у каталогах НБУВ Повний текст Наукова періодика України Додаткова інформація про автора(ів) публікації: (cписок формується автоматично, до списку можуть бути включені персоналії з подібними іменами або однофамільці) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|