Одарич В. А. Еліпсометричні дослідження неоднорідності плівок HfO2 / В. А. Одарич // Фізика і хімія твердого тіла. - 2010. - 11, № 2. - С. 515-519. - Бібліогр.: 11 назв. - укp.Проведено багатокутові еліпсометричні виміри у видній області спектра на діелектричних плівках, одержаних на кварцовому склі розпиленням матеріалу електронним пучком. Показано, що виміряна еліпсометрична функція описується двошаровою системою, яка включає основний шар і перехідний шар на його поверхні. Знайдено показники заломлення та товщини шарів. Внутрішній шар має більший показник заломлення, ніж зовнішній, однаковий для обох досліджених плівок. Товщина зовнішнього шару перебуває у межах 15 - 20 нм. Припущено, що зовнішній шар утворений вершинами стовпчиків, які утворюють внутрішній шар. Індекс рубрикатора НБУВ: В379.326
Рубрики:
Шифр НБУВ: Ж26618 Пошук видання у каталогах НБУВ
![](/irbis_nbuv/images/info.png) Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"
|