С помощью методов потенциодинамических поляризационных кривых, оже-электронной микроскопии и сканирующей электронной микроскопии изучен состав четырехслойной оксидной пленки, образующейся на поверхности HfC-анода при электролизе 3 %-ного раствора NaCl в области потенциалов от -0,20 до +1,90 В. Эта пленка содержит верхний слой полимолекулярной хемосорбции газов (O2 + Cl2) и следующий за ним слой HfO2 + С (1:1), а в виде двух нижних слоев - соответственно, твердый раствор 7 % (ат.) кислорода в HfC и смесь оксикарбида гафния HfC0,7O0,3 с оксидом HfO (7:1). Оксидная пленка толщиной 30 - 40 нм, сформированная при потенциалах до 1,35 В, является защитной и при отсутствии дальнейшей поляризации обеспечивает высокую коррозионную стойкость HfC.

• Руденко Юлія Борисівна (технічні науки)

  Якщо, ви не знайшли інформацію про автора(ів) публікації, маєте бажання виправити або відобразити більш докладну інформацію про науковців України запрошуємо заповнити "Анкету науковця"